응력·변형과 탄성
300 mm 실리콘 웨이퍼 위에 질화막을 1 µm 올리면, 막이 1 GPa로 당기는 것만으로 웨이퍼 가운데가 가장자리보다 0.6 mm 가까이 내려앉는다. 막은 웨이퍼 두께의 0.13 %밖에 안 되는데도 그렇다. 반대로 휨을 재면 눈에 보이지 않는 막 속 응력을 거꾸로 계산할 수 있다. 이 장은 그 계산에 필요한 탄성학을 재료공학의 눈으로 정리한다. 힘과 찌그러짐을 방향까지 담아 적는 응력·변형 텐서, 좌표를 돌릴 때 성분이 바뀌는 규칙과 모어 원, 등방성 재료의 훅 법칙과 네 탄성 상수, 원자 결합에서 오는 탄성률과 단결정 실리콘의 이방성, 온도가 만드는 열응력과 이층판의 휨, 박막 응력의 스토니 식과 웨이퍼 bow·warp, 그리고 여러 방향 응력이 함께 걸릴 때 항복을 판정하는 폰 미제스 기준이다. 아래 그림은 증착되는 박막(위 띠)과 함께 휘는 웨이퍼, 그리고 휨을 재는 두 줄기 레이저다.
- 면에 작용하는 힘(트랙션)에서 응력 텐서를, 변위의 기울기에서 변형 텐서를 세우고 공학 전단 변형 \(\gamma = 2\varepsilon_{xy}\)와 강체 회전을 구별한다.
- 좌표를 돌린 응력 성분을 계산하고, 주응력·주방향·최대 전단 응력을 식과 모어 원으로 구하며 3차원의 세 모어 원을 읽는다.
- 등방성 훅 법칙으로 다축 응력의 변형과 부피 변화를 계산하고 \(E, \nu, G, K\) 사이를 변환하며, 단축 응력·이축 응력·단축 변형의 탄성률 \(E\), \(E/(1-\nu)\), \(\lambda+2G\)를 구별한다.
- 결합 퍼텐셜 곡선의 곡률에서 탄성률을 어림하고, 입방정 탄성 상수로 실리콘의 방향별 영률(130–188 GPa)과 (001) 면의 이축 탄성률 180 GPa를 계산하며 다결정의 평균 탄성률을 설명한다.
- 열변형과 막힌 봉의 열응력, 기판 위 박막의 열 불일치 응력 \(\sigma_f = \tfrac{E_f}{1-\nu_f}(\alpha_s-\alpha_f)\Delta T\), 이층판(티모셴코) 휨을 계산한다.
- 스토니 식으로 박막 응력과 웨이퍼 곡률·휨(bow)을 오가고, 여러 층의 휨을 더해 웨이퍼 휨 예산을 짠다.
- 폰 미제스·트레스카 등가 응력으로 다축 응력 상태의 항복 여부를 판정하고, 정수압 응력이 항복에 기여하지 않는 이유를 설명한다.
응력과 변형을 텐서로 쓰기
일반물리에서는 봉을 당기는 힘을 단면적으로 나눈 \(\sigma = F/A\)와 늘어난 비율 \(\varepsilon = \Delta l/l_0\)로 탄성을 다뤘다(일반물리 · 평형과 탄성). 그러나 웨이퍼 위 박막은 면 안의 두 방향으로 동시에 당겨지고, 배선은 세 방향으로 갇혀 있으며, 솔더 범프는 비틀린다. 이런 상태를 적으려면 "어느 면에" "어느 방향으로" 힘이 걸리는지를 함께 담아야 한다.
물체 속 한 점을 지나는 가상의 면을 생각하자. 면의 바깥 법선이 \(\hat n\)일 때 그 면을 통해 한쪽이 다른 쪽에 미치는 단위 넓이당 힘을 트랙션(traction) \(\mathbf t(\hat n)\)이라 한다. 같은 점이라도 면의 방향을 바꾸면 트랙션이 바뀐다. 그런데 좌표면 세 개(법선 \(x, y, z\))의 트랙션만 알면 어떤 면의 트랙션도 계산된다(작은 사면체의 힘 평형, 코시의 정리). 그 세 트랙션의 성분 아홉 개를 모은 것이 응력 텐서(stress tensor)다.
- 법선이 \(+x\)인 면에는 수직 응력 하나와 전단 응력 둘이 걸린다.
- 세 좌표면의 성분을 모으면 3×3 행렬, 곧 응력 텐서가 된다.
- 모멘트 평형이 짝 전단 응력을 같게 만들어 텐서는 대칭이다.
법선이 \(\hat n\)인 임의의 면에 걸리는 트랙션은 \(\mathbf t = \boldsymbol\sigma\hat n\)이고, 그 가운데 면에 수직인 성분이 수직 응력 \(\sigma_n = \hat n\cdot\boldsymbol\sigma\hat n\), 나머지가 전단 응력 \(\tau_n = |\mathbf t - \sigma_n\hat n|\)이다. 단면적 \(A_0\)인 봉을 축 방향 \(\sigma\)로 당길 때 축과 각 \(\theta\)를 이루는 법선의 비스듬한 면에서는
지름 10 봉을 15으로 당기면 축 응력은 이다. 법선이 축과 30를 이루는 면에서 수직 응력은 , 전단 응력은 이다.
변형 텐서와 강체 회전
점 \(\mathbf x\)가 \(\mathbf u(\mathbf x)\)만큼 움직였다고 하자. 이웃한 두 점의 상대 변위는 변위 기울기 \(\partial u_i/\partial x_j\)가 정한다. 그런데 이 기울기에는 물체를 찌그러뜨리지 않고 돌리기만 하는 부분도 섞여 있다. 대칭 부분만이 길이와 각도를 바꾸며, 이것이 (작은 변형의) 변형 텐서(strain tensor)다.
지름 10 mm 알루미늄 봉을 15 kN으로 당긴다. (a) 축 응력과 (b) 법선이 축과 30°를 이루는 면의 수직 응력·전단 응력, (c) 전단 응력이 최대인 면과 그 값을 구하라.
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좌표 회전, 주응력과 모어 원
응력 텐서의 성분은 좌표축을 어떻게 잡느냐에 따라 달라진다. 그러나 물리적 상태는 하나이므로 성분들은 정해진 규칙으로 함께 바뀐다. 박막·표면처럼 \(z\) 방향 성분이 0인 평면 응력(plane stress) 상태에서 \(xy\) 축을 \(\theta\)만큼 반시계 방향으로 돌리면
전단 성분이 0이 되는 방향이 반드시 있다. 그 방향을 주방향(principal direction), 그때의 수직 응력을 주응력(principal stress)이라 한다. 주응력은 그 점의 수직 응력 가운데 가장 큰 값과 가장 작은 값이고, 둘의 차이 절반이 면 안 최대 전단 응력이다.
회전 공식의 두 줄을 제곱해 더하면 \(\big(\sigma_{x'}-\tfrac{\sigma_x+\sigma_y}{2}\big)^2+\tau_{x'y'}^2 = R^2\)이다. 곧 점 \((\sigma_{x'}, \tau_{x'y'})\)은 좌표를 어떻게 돌려도 중심 \(\big(\tfrac{\sigma_x+\sigma_y}{2}, 0\big)\), 반지름 \(R\)인 원 위에 있다. 이것이 모어 원(Mohr's circle)이다. 요소를 \(\theta\) 돌리면 원 위의 점은 \(2\theta\) 돈다. 이 책은 전단 축을 아래쪽이 +가 되게 그려 요소와 점이 같은 방향으로 돌게 한다.
\(\sigma_x = 80\), \(\sigma_y = -20\), \(\tau_{xy} = 40\) MPa인 요소를 반시계로 돌려 전단이 사라지는 방향을 찾으려 한다. 몇 도쯤 돌려야 할까?
응력 요소를 돌리면 모어 원 위의 점이 함께 돈다
배선 아래 실리콘 표면의 한 점에서 \(\sigma_x = 80\) MPa, \(\sigma_y = -20\) MPa, \(\tau_{xy} = 40\) MPa이다(\(\sigma_z\) = 0). (a) 주응력과 주방향, (b) 면 안 최대 전단 응력과 절대 최대 전단 응력, (c) 축을 30° 돌린 성분을 구하라.
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등방성 훅 법칙과 탄성 상수
작은 변형에서 응력과 변형은 비례한다. 성질이 방향에 무관한 등방성(isotropic) 재료 — 무작위 방위의 다결정 금속, 유리, 비정질 박막 — 에서는 비례 상수가 둘뿐이다. 당긴 방향으로 늘어나는 정도를 정하는 영률(Young's modulus) \(E\)와, 옆으로 줄어드는 정도를 정하는 푸아송 비(Poisson's ratio) \(\nu = -\varepsilon_\text{옆}/\varepsilon_\text{축}\)이다. 세 방향 응력의 효과를 더하면(중첩) 일반화된 훅 법칙이 된다.
등방성 재료의 탄성 상수는 독립인 것이 둘뿐이므로 나머지는 모두 \(E\)와 \(\nu\)로 쓸 수 있다. 순수 전단을 45° 돌린 주응력 상태(\(\sigma_1 = -\sigma_2 = \tau\))에 훅 법칙을 적용하면 \(G\)가, 정수압 \(\sigma_x = \sigma_y = \sigma_z = -p\)를 넣으면 체적 탄성률(bulk modulus) \(K = -p/(\Delta V/V)\)가 나온다.
\(E =\) 110, \(\nu =\) 0.34인 재료는 \(G =\) , \(K =\) , \(\lambda =\) 이다. 이 재료의 박막(등이축 응력)이 느끼는 탄성률은 \(E/(1-\nu) =\) 이다.
고무줄(\(\nu\approx0.49\))을 길이 방향으로 2 % 늘인다. 고무의 부피는 어떻게 될까?
막대를 끌어 늘이면 가늘어진다: 푸아송 효과와 옆 구속
지름 12 mm 알루미늄 봉(\(E = 69\) GPa, \(\nu = 0.33\))을 길이 방향으로 당겼더니 지름이 \(3.0\times10^{-3}\) mm 줄었다(탄성 영역). (a) 걸어 준 힘, (b) 길이 100 mm 구간의 늘어남, (c) 부피 변화율을 구하라.
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탄성률의 원자적 기원과 단결정의 이방성
2장에서 본 결합 에너지 곡선 \(U(r)\)으로 돌아가자. 원자 사이 힘은 \(F = -dU/dr\)이고, 평형 거리 \(r_0\) 근처에서 작게 늘이면 \(F\approx -S_0(r-r_0)\), 곧 결합 하나가 용수철 상수 \(S_0 = (d^2U/dr^2)_{r_0}\)인 용수철처럼 행동한다. 단면 \(r_0^2\)마다 결합 하나가 있다고 보면 응력은 \(\sigma = S_0(r-r_0)/r_0^2\), 변형은 \((r-r_0)/r_0\)이므로
입방정 단결정의 탄성: 실리콘
단결정에서는 결합이 특정 방향으로 놓여 있어 탄성이 방향에 따라 다르다. 입방정의 훅 법칙은 독립 상수 셋 \(C_{11}, C_{12}, C_{44}\)(강성)으로 쓰고, 역행렬인 순응 계수 \(S_{11}, S_{12}, S_{44}\)로 방향 \(\hat n = (l_1, l_2, l_3)\)의 영률을 구한다.
(001) 실리콘 웨이퍼 위에 MEMS 외팔보를 만든다. 웨이퍼 면 안에서 어느 방향으로 놓아야 가장 뻣뻣할까?
결정 방향을 돌리며 영률과 푸아송 비 읽기
트랜지스터 채널도 이방성을 쓴다. 변형 실리콘은 SiGe 소스·드레인이나 응력을 가진 질화막(CESL)으로 채널을 ⟨110⟩ 방향으로 수백 MPa–1 GPa 누르거나 당겨 띠 구조를 바꾸고 이동도를 높인다. 같은 힘이 만드는 변형은 그 방향의 \(E\)와 \(\nu\)가 정하므로 응력 설계에는 방향별 상수가 필요하다. 에피층의 격자 불일치 변형과 임계 두께는 고체물리에서 다뤘다(고체물리 · 결합과 탄성).
다결정의 탄성률: 결정립 평균
다결정은 방위가 다른 결정립의 모자이크다. 하중을 받으면 결정립마다 방향 영률이 다르므로 응력과 변형이 결정립마다 다르게 나뉜다. 모든 결정립의 변형이 같다고 보면(보이트, 등변형) 강성의 평균이, 응력이 같다고 보면(로이스, 등응력) 순응의 평균이 나오고, 실제 값은 그 사이다. 실무에서는 두 경계의 평균(힐 평균)을 쓴다. 집합 조직이 있으면 결과가 달라진다. 이 경계들은 14장 복합재료의 혼합 법칙과 같은 구조다(복합재료).
Si의 \(C_{11} = 165.7\), \(C_{12} = 63.9\), \(C_{44} = 79.6\) GPa로 (a) 순응 계수, (b) [100]·[110]·[111]의 영률, (c) (001) 면의 이축 탄성률 \(M = C_{11}+C_{12}-2C_{12}^2/C_{11}\)을 구하고, (d) 같은 단면의 외팔보를 [110]으로 놓을 때 [100]보다 처짐이 몇 배인지 구하라.
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열변형, 열응력과 이층판의 휨
온도가 \(\Delta T\) 오르면 자유로운 물체는 모든 방향으로 \(\varepsilon_\text{th} = \alpha\Delta T\)만큼 늘어난다(\(\alpha\): 선 열팽창 계수(coefficient of thermal expansion, CTE), ppm/K). 자유 팽창은 응력을 만들지 않는다. 응력은 팽창이 막힐 때 생긴다. 전체 변형은 탄성 변형과 열변형의 합이므로 훅 법칙은 \(\varepsilon_x = [\sigma_x-\nu(\sigma_y+\sigma_z)]/E+\alpha\Delta T\)가 된다. 열팽창의 원자적 기원(비조화 퍼텐셜)은 16장에서 다룬다(열적·광학적 성질).
기판 위 박막의 열 불일치 응력
박막은 두꺼운 기판에 붙어 있어 면 안으로는 기판의 열변형을 그대로 따라가야 한다. 증착 온도 \(T_\text{dep}\)에서 응력이 없던 막을 \(T\)로 식히면 막이 따라가야 할 변형은 \((\alpha_s-\alpha_f)\Delta T\)(\(\Delta T = T-T_\text{dep}\))이고, 막은 면 안 등이축 응력, 면에 수직으로는 자유(\(\sigma_z = 0\))다.
- 증착(또는 어닐) 온도에서는 응력이 없다.
- 따로 떼어 식히면 막과 기판이 다르게 줄어든다.
- 붙어 있으므로 막이 기판의 길이에 맞춰 늘려지거나 눌린다.
영률 69, 푸아송 비 0.33, 열팽창 계수 23.6인 막을 Si(2.6 ppm/K) 위에 400에서 응력 없이 만든 뒤 25 °C로 식히면 열응력은 , 막의 열 불일치 변형은 이다.
1000 °C에서 키운 열산화막(SiO₂: \(E = 73\) GPa, \(\nu = 0.17\), \(\alpha = 0.55\) ppm/K)을 Si(\(\alpha = 2.6\) ppm/K) 위에서 25 °C로 식혔다. 성장 중 응력은 없었다고 보고 상온 열응력을 구하라. 또 양 끝이 막힌 알루미늄 봉(\(E = 69\) GPa, \(\alpha = 23.6\) ppm/K)을 50 K 데울 때의 응력과 비교하라.
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이층판의 휨
두 층의 두께가 비슷하면 "막은 늘려지고 기판은 그대로"라는 그림이 맞지 않는다. 두 층 모두 늘어나고 줄어들며, 그 짝힘이 판을 크게 휜다. 바이메탈 온도계가 그렇고, 실리콘 다이를 구리 리드프레임이나 유기 기판에 붙인 패키지가 그렇다. 티모셴코의 이층 보 해는
두께 0.3 mm 실리콘 다이를 0.2 mm 구리판 위에 175 °C에서 단단히 붙인 뒤 상온으로 식힌다. 다이를 위에 두고 보면 모양은?
이층판 실험대: 온도와 두께 비를 끌어 휨 보기
두께 0.30 mm Si 다이(\(E = 165\) GPa, \(\alpha = 2.6\) ppm/K)를 두께 0.20 mm Cu(\(E = 110\) GPa, \(\alpha = 17.0\) ppm/K)에 175 °C에서 단단히 붙이고 25 °C로 식혔다. 보 근사로 곡률 반지름과 길이 10 mm의 휨을 구하라.
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패키지는 실리콘(2.6 ppm/K), 구리(17), EMC(유리 전이 아래 8–10, 위 30 이상), 유기 기판(면 방향 14–17)이 쌓인 다층판이다. 몰딩 경화 온도(175 °C)에서 응력이 0이라도 상온으로 식으면 이 장의 이층판처럼 휘고, 리플로(250 °C 근처)에서는 EMC가 유리 전이를 넘어 반대로 휠 수 있다. 휨이 크면 솔더 볼이 기판에 닿지 않거나(비접촉 개방) 다리가 생기므로(브리지) JEDEC 규격은 리플로 온도 구간 전체의 휨을 \(\pm\)수십 µm 안으로 관리한다. 설계는 층 두께·EMC 조성(충전재 비율)으로 곡률을 서로 상쇄시키는 일이다. → PackagingBook · 열·기계·전기 설계
박막 응력, 스토니 식과 웨이퍼 휨
박막의 응력은 열 불일치만으로 생기지 않는다. 막이 자라는 동안 원자가 쌓이는 방식 자체가 응력을 남기며 이를 진성 응력(intrinsic stress)이라 한다. 상온에서 측정하는 막 응력은 진성 응력과 열응력의 합이다: \(\sigma_f = \sigma_\text{int}+\sigma_\text{th}\).
| 막 (대표 공정) | 대표 응력 (MPa) | 주된 기원 |
|---|---|---|
| 열산화 SiO₂ (건식·습식) | −200 ~ −350 | Si → SiO₂ 부피 팽창 + 열 불일치 |
| PECVD SiO₂ (TEOS) | −50 ~ −300 | 이온 충돌, 수분 흡수로 변함 |
| LPCVD Si₃N₄ | +1000 ~ +1200 | 고온 치밀화 + 열 불일치(인장) |
| PECVD SiN | −2000 ~ +1500 | RF 주파수·수소 함량으로 조절 |
| CVD W | +800 ~ +1500 | 결정립 합침(인장) |
| 전해 도금 Cu (어닐 후) | +100 ~ +300 | 재결정·결정립 성장 + 열 불일치 |
| 스퍼터 Al·Cu (식힌 뒤) | +100 ~ +400 | 열 불일치(항복으로 제한) |
막 응력은 직접 잴 수 없지만 막이 기판에 남기는 휨은 잴 수 있다. 막이 면 안으로 \(\sigma_f\)라면 단위 폭당 힘 \(\sigma_fh_f\)가 기판 표면에 걸리고, 그 힘이 기판 중립면에서 \(h_s/2\)만큼 떨어져 있으므로 굽힘 모멘트가 생긴다. 이 모멘트와 기판의 굽힘 저항을 맞춘 것이 스토니 식(Stoney equation)이다.
- 막이 기판 표면에 붙어 있다.
- 막 응력은 표면에 단위 폭당 힘 \(\sigma_fh_f\)를 건다. 힘은 중립면에서 \(h_s/2\) 떨어져 있다.
- 이 모멘트가 판을 곡률 \(\kappa\)로 굽힌다.
- 두 모멘트를 같게 놓으면 스토니 식이다.
두께 775, 지름 300인 (001) 실리콘 웨이퍼 위에 응력 1000, 두께 1.00인 막을 올리면 곡률 반지름은 , bow는 이다.
막이 여러 층이면 각 층의 힘 \(\sigma_ih_i\)가 독립적으로 모멘트를 만들므로 곡률이 더해진다: \(\kappa = \frac{6}{M_sh_s^2}\sum_i\sigma_ih_i\). 웨이퍼 휨을 관리하는 사람에게 막 응력의 단위는 사실상 "MPa·µm"(= N/m, 단위 폭당 힘)이다. 300 mm·775 µm 웨이퍼에서는 \(\sum\sigma_ih_i\) 1 MPa·µm가 bow 약 0.62 µm에 해당한다. 뒷면에 올린 막은 같은 응력이라도 반대 방향으로 휘게 하므로, 앞면의 휨을 뒷면 막으로 상쇄하는 것이 3D NAND의 표준 기법이다.
같은 막을 증착한 웨이퍼를 뒷면 연삭으로 775 µm에서 250 µm로 얇게 했다(막은 그대로). bow는?
스토니 웨이퍼: 막을 쌓으면 휜다 · 가운데를 끌면 응력이 나온다
박막 공정에서 막 응력은 두께·굴절률과 함께 매일 재는 관리 항목이다. 증착 전 웨이퍼의 곡률을 레이저로 스캔해 두고 증착 후 다시 재어 \(\Delta\kappa\)에서 스토니 식으로 응력을 계산한다(막의 탄성 상수를 몰라도 되는 것이 큰 장점이다). 응력이 기준을 벗어나면 막이 뜨거나(압축, 버클링) 갈라지고(인장, 균열), 아래 소자에 응력을 전달해 문턱 전압을 바꾸며, 노광 장비가 척에 고정하지 못할 만큼 웨이퍼가 휜다. PECVD 질화막은 RF 전력·주파수 혼합비로 응력을 조절하는 대표적인 손잡이다. → ProcessBook · 박막 증착
300 mm (001) Si 웨이퍼(\(h_s = 775\) µm)에 PECVD 질화막 500 nm를 올렸더니 bow가 +5 µm에서 −45 µm로 바뀌었다. 막 응력을 구하라(\(M_s = 180\) GPa).
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도전: 웨이퍼 휨 예산 맞추기
여러 층을 차례로 쌓는 동안 웨이퍼는 단계마다 노광 장비와 이송 장비의 척에 고정되어야 한다. 그래서 마지막 휨만이 아니라 모든 단계의 휨이 한계 안에 있어야 한다. 각 층의 증착 조건(곧 응력)을 골라 휨 예산을 맞춰 보자.
휨 예산 게임: 층마다 응력을 골라 척킹 한계 지키기
3D NAND는 산화막/질화막 쌍을 수백 층 쌓은 몰드에 채널 구멍을 뚫고, 질화막을 빼낸 자리에 텅스텐 워드라인을 채운다. 몰드만 수–10 µm 두께라 층마다 수십 MPa만 어긋나도 300 mm 웨이퍼가 수백 µm 휜다. 그래서 산화막·질화막의 응력을 서로 상쇄하도록 증착 조건을 맞추고, 텅스텐 대체 뒤의 큰 인장은 뒷면 보상막으로 되돌린다. 휨이 방향마다 다르면(블록 슬릿이 한 방향으로 길다) 안장꼴이 생겨 노광 오버레이 오차가 커진다. → MemoryBook · V-NAND
패키지용 웨이퍼는 뒷면 연삭으로 50–100 µm까지 얇아진다. 스토니 곡률이 \(1/h_s^2\)에 비례하므로 775 µm에서 50 µm로 갈면 같은 앞면 막이 240배 휜다. 연삭이 남긴 뒷면 손상층(미세 균열·비정질층)도 압축 응력을 가진 "막"으로 작용한다. 그래서 연삭 뒤 스트레스 릴리프(건식 연마·습식 식각)로 손상층을 걷어 내고, 캐리어나 테이프 프레임에 붙여 다룬다. 다이 강도(7장)도 같은 손상층이 정한다. → PackagingBook · 웨이퍼 테스트와 박막화
폰 미제스 등가 응력과 항복 기준
인장 시험은 응력 성분 하나로 항복 강도 \(\sigma_\mathrm{y}\)를 준다(6장). 그런데 실제 부품과 박막은 여러 성분이 함께 걸린다. 그 상태가 항복하는지 판단하려면 다축 응력을 "인장 시험으로 치면 얼마"인 숫자 하나로 바꿔야 한다. 금속의 소성은 전위가 슬립 면에서 전단으로 미끄러지는 것이므로, 기준은 전단과 관련된 양이어야 하고 모든 방향으로 같게 누르는 정수압 응력과는 무관해야 한다. 실험으로도 금속은 수천 MPa의 정수압에서 항복하지 않는다.
응력을 정수압 부분 \(\sigma_m\)과 나머지 편차 응력 \(s_{ij} = \sigma_{ij}-\sigma_m\delta_{ij}\)로 나누면, 모양을 바꾸는 것은 편차 응력뿐이다. 편차 응력이 저장하는 탄성 에너지(뒤틀림 에너지)가 임계값에 이르면 항복한다는 것이 폰 미제스 항복 기준(von Mises yield criterion)이고, 최대 전단 응력이 임계값에 이르면 항복한다는 것이 트레스카 항복 기준(Tresca yield criterion)이다.
평면 응력(\(\sigma_3 = 0\))에서 폰 미제스 기준은 \(\sigma_1^2-\sigma_1\sigma_2+\sigma_2^2 = \sigma_\mathrm{y}^2\)인 기운 타원이고, 트레스카 기준은 그 안에 내접하는 육각형이다. 박막의 등이축 응력 \(\sigma_1 = \sigma_2 = \sigma\)는 타원의 꼭짓점 방향이며 \(\sigma_\text{vM} = |\sigma|\) — 단축 인장과 같은 응력에서 항복한다.
항복 강도 200 MPa인 알루미늄 막이 웨이퍼 위에서 등이축으로 \(\sigma_1 = \sigma_2 = \sigma\)를 받는다. 막에 수직으로는 응력이 없다. 몇 MPa에서 항복할까?
σ₁–σ₂ 평면의 항복면: 하중점을 끌어 항복 판정하기
축 응력 200와 비틀림 전단 응력 100가 함께 걸린 축에서 폰 미제스 등가 응력 \(\sqrt{\sigma^2+3\tau^2}\)은 , 트레스카 \(\sqrt{\sigma^2+4\tau^2}\)는 이다. 항복 강도 300이면
항복 강도 250 MPa인 강 축에 축 방향 인장 200 MPa와 비틀림 전단 100 MPa가 함께 걸린다. (a) 주응력, (b) 폰 미제스·트레스카 등가 응력과 항복 여부, (c) 인장을 200 MPa로 둔 채 폰 미제스 기준으로 허용되는 최대 전단 응력을 구하라.
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산화막과 질화막으로 사방이 둘러싸인 구리·알루미늄 배선은 식으면서 세 방향 모두 인장을 받는다(예: 400, 300, 250 MPa). 폰 미제스 등가 응력은 132 MPa에 불과해 소성 변형으로 응력을 풀 수 없고, 평균 응력 317 MPa의 큰 정수압 인장이 남는다. 이 정수압이 공공을 끌어모아 배선 속에 보이드를 키우는 것이 응력 이동(stress migration)이다(17장, 재료 열화와 신뢰성). 항복 기준이 "편차 응력"만 보는 이유와 그 한계를 함께 보여 주는 예다.
핵심 정리
- 응력·변형 텐서: 면 \(\hat n\)의 트랙션 \(\mathbf t = \boldsymbol\sigma\hat n\). 응력은 대칭 텐서(독립 6성분). 변형은 변위 기울기의 대칭 부분 \(\varepsilon_{ij} = \tfrac12(\partial_ju_i+\partial_iu_j)\)이고 반대칭 부분은 강체 회전이다. 공학 전단 변형 \(\gamma = 2\varepsilon_{xy}\), 부피 변화 \(\Delta V/V = \operatorname{tr}\boldsymbol\varepsilon\).
- 주응력과 모어 원: 좌표를 \(\theta\) 돌리면 모어 원 위의 점이 \(2\theta\) 돈다. \(\sigma_{1,2} = \tfrac{\sigma_x+\sigma_y}{2}\pm R\), \(R = \sqrt{(\tfrac{\sigma_x-\sigma_y}{2})^2+\tau_{xy}^2}\), \(\tan2\theta_p = 2\tau_{xy}/(\sigma_x-\sigma_y)\). 3차원에서는 고윳값 \(\sigma_1\ge\sigma_2\ge\sigma_3\), 절대 최대 전단 \((\sigma_1-\sigma_3)/2\) — 등이축 박막도 면 밖으로 기운 면에 \(\sigma/2\)의 전단이 있다.
- 등방성 훅 법칙: \(\varepsilon_x = [\sigma_x-\nu(\sigma_y+\sigma_z)]/E\), \(\gamma = \tau/G\). \(G = E/2(1+\nu)\), \(K = E/3(1-2\nu)\), \(-1 \lt \nu \lt 0.5\). 하중 조건마다 유효 탄성률이 다르다: 단축 \(E\), 등이축(박막) \(E/(1-\nu)\), 평면 변형 \(E/(1-\nu^2)\), 단축 변형 \(\lambda+2G\).
- 탄성의 원자적 기원과 이방성: \(E\approx(1/r_0)\,d^2U/dr^2\) — 결합 곡선 바닥의 곡률. 입방정 \(1/E_{\hat n} = S_{11}-2(S_{11}-S_{12}-S_{44}/2)J\). Si: \(E_{100} = 130\), \(E_{110} = 169\), \(E_{111} = 188\) GPa, (001) 이축 \(M = 180\) GPa(면 안 등방), \(A = 1.56\). 다결정은 보이트·로이스 사이(힐 평균), 집합 조직에 따라 달라진다.
- 열응력: 막힌 봉 \(-E\alpha\Delta T\), 박막 \(\sigma_f = \tfrac{E_f}{1-\nu_f}(\alpha_s-\alpha_f)(T-T_\text{dep})\) — 금속 막 on Si는 식으면 인장, SiO₂는 압축. 두께가 비슷한 이층판은 티모셴코 식으로 휘고, 얇은 층의 극한이 스토니 식이다.
- 스토니 식과 웨이퍼 휨: \(\sigma_f = M_sh_s^2\kappa/(6h_f)\), 막의 탄성 상수가 필요 없다. bow \(= \mp\kappa D^2/8\)(인장은 막 쪽 오목). 여러 층은 \(\sum\sigma_ih_i\)(MPa·µm)가 더해지고 뒷면 막은 부호가 반대다. 300 mm·775 µm에서 1 MPa·µm ≈ 0.62 µm. 곡률 \(\propto1/h_s^2\)이라 얇은 웨이퍼는 크게 휜다. 모든 공정 단계의 휨이 척킹 한계 안에 있어야 한다.
- 항복 기준: 정수압은 항복에 기여하지 않는다. 폰 미제스 \(\sigma_\text{vM} = \sqrt{\tfrac12\sum(\sigma_i-\sigma_j)^2}\), 트레스카 \(\sigma_1-\sigma_3\). 순수 전단 항복은 \(0.577\sigma_\mathrm{y}\)(vM)·\(0.5\sigma_\mathrm{y}\)(Tr), 등이축 박막은 \(|\sigma| = \sigma_\mathrm{y}\)에서 항복한다. 사방이 갇힌 배선은 등가 응력이 작아 항복하지 못하고 정수압 인장이 남는다.
연습문제
따로 말이 없으면 (001) Si 웨이퍼의 이축 탄성률 \(M_s = E_s/(1-\nu_s) = 180\) GPa, Si의 열팽창 계수 2.6 ppm/K를 쓴다. 인장 응력은 +, 압축은 −로 답한다. bow는 막을 위에 두고 가운데가 높으면 +다. 답이 ±1–2 % 이내면 정답이다.
지름 8.0 mm, 길이 200 mm인 강 봉(\(E = 207\) GPa)을 12 kN으로 당긴다. 축 응력과 늘어난 길이를 구하라.
\(A = \pi(8.0)^2/4 = 50.27\) mm², \(\sigma = 12000/50.27 = 239\) MPa. \(\Delta l = 239\times200/207000 = 0.231\) mm.
알루미늄(\(E = 69\) GPa, \(\nu = 0.33\))의 전단 탄성률과 체적 탄성률을 구하라.
\(G = 69/(2\times1.33) = 25.9\) GPa, \(K = 69/(3\times0.34) = 67.6\) GPa.
평면 응력 상태에서 좌표축을 어떻게 돌려도 값이 변하지 않는 것은?
회전 공식에서 \(\sigma_{x'}+\sigma_{y'} = \sigma_x+\sigma_y\)이다(모어 원의 중심이 그대로). \(\sigma_1\sigma_2 = \sigma_x\sigma_y-\tau_{xy}^2\)도 불변량이다.
\(\sigma_x = -40\) MPa, \(\sigma_y = 60\) MPa, \(\tau_{xy} = -30\) MPa인 평면 응력의 주응력과 면 안 최대 전단 응력을 구하라.
\(R = \sqrt{2500+900} = 58.3\) MPa. \(\sigma_1 = 10+58.3 = 68.3\), \(\sigma_2 = 10-58.3 = -48.3\) MPa, \(\tau_{\max} = 58.3\) MPa. \(\tan2\theta_p = -60/(-100) = 0.6\)이지만 \(\sigma_x-\sigma_y \lt 0\)이므로 \(2\theta_p = 31.0°-180°\), σ₁ 방향은 \(\theta_p = -74.5°\)(곧 105.5°)이다 — σ₁은 \(y\)축 가까이에 있다.
웨이퍼 위 박막이 등이축 인장 500 MPa를 받고 막에 수직인 응력은 0이다. 막 속의 절대 최대 전단 응력은?
\(\tau_{\max} = (\sigma_1-\sigma_3)/2 = (500-0)/2 = 250\) MPa. 면 안 어떤 방향에도 전단이 없지만 막 면과 45° 기운 면에 250 MPa가 걸린다. 막이 두께 방향으로 기운 슬립이나 균열을 일으키는 이유다.
티타늄 시편을 단축 200 MPa로 당겼더니 축 방향 변형 게이지가 \(1.94\times10^{-3}\), 옆 방향 게이지가 \(-6.60\times10^{-4}\)을 읽었다. 영률과 푸아송 비를 구하라.
\(E = 200/1.94\times10^{-3} = 1.03\times10^{5}\) MPa = 103 GPa, \(\nu = 6.60\times10^{-4}/1.94\times10^{-3} = 0.340\).
구리(\(E = 110\) GPa, \(\nu = 0.34\)) 정육면체에 정수압 100 MPa를 가한다. 부피 변화율을 퍼센트로 구하라.
\(K = 110/(3\times0.32) = 114.6\) GPa. \(\Delta V/V = -100/114600 = -8.73\times10^{-4} = -0.0873\) %.
Si의 순응 계수 \(S_{11} = 7.68\times10^{-3}\), \(S_{12} = -2.14\times10^{-3}\), \(S_{44} = 1.256\times10^{-2}\) GPa⁻¹로 [110]과 [111] 방향의 영률을 구하라.
\(S_0 = S_{11}-S_{12}-S_{44}/2 = 7.68+2.14-6.28 = 3.54\times10^{-3}\). \(1/E_{110} = 7.68-3.54/2 = 5.91\times10^{-3}\) → 169 GPa. \(1/E_{111} = 7.68-2\times3.54/3 = 5.32\times10^{-3}\) → 188 GPa.
양 끝이 단단한 벽에 고정된 구리 봉(\(E = 110\) GPa, \(\alpha = 17.0\) ppm/K)을 20 °C에서 120 °C로 데운다. 봉의 응력은?(항복은 생각하지 않는다)
\(\sigma = -E\alpha\Delta T = -110000\times17.0\times10^{-6}\times100 = -187\) MPa(압축). 순 구리의 항복 강도(약 69 MPa)를 넘으므로 실제로는 소성 변형한다.
Si 웨이퍼 위 알루미늄 막(\(E = 69\) GPa, \(\nu = 0.33\), \(\alpha = 23.6\) ppm/K)이 400 °C 어닐에서 응력이 완전히 풀렸다. 25 °C로 식혔을 때 탄성으로만 계산한 열응력은?
\(\sigma_f = \dfrac{69000}{0.67}\times(2.6-23.6)\times10^{-6}\times(25-400) = 103000\times(-21.0\times10^{-6})\times(-375) = +811\) MPa(인장). 막의 항복 강도(수백 MPa)를 훨씬 넘으므로 실제로는 식는 도중 소성 변형해 상온 응력이 200–400 MPa로 제한된다 — 응력–온도 곡선의 이력이 이렇게 생긴다.
200 mm Si 웨이퍼(두께 725 µm)에 인장 1000 MPa인 LPCVD 질화막 300 nm를 올렸다. 가운데가 가장자리보다 얼마나 낮아지는지(µm)와 곡률 반지름을 구하라.
\(\kappa = 6\times10^{9}\times3\times10^{-7}/(180\times10^{9}\times(7.25\times10^{-4})^2) = 1800/94610 = 1.90\times10^{-2}\) m⁻¹, \(R = 52.7\) m. 처짐 \(= 0.0190\times(0.200)^2/8 = 9.50\times10^{-5}\) m = 95.0 µm(인장이므로 막 쪽 오목, bow = −95 µm).
775 µm 웨이퍼의 앞면 막이 만든 bow가 +30 µm이다. 막은 그대로 두고 뒷면을 연삭해 300 µm로 얇게 하면 bow는?(연삭 손상층의 응력과 큰 처짐 효과는 무시한다)
스토니 곡률 \(\propto1/h_s^2\): \(30\times(775/300)^2 = 30\times6.67 = 200\) µm. 실제로는 뒷면 손상층의 압축 응력도 bow를 바꾸므로 스트레스 릴리프 공정이 필요하다.
300 mm·775 µm 웨이퍼 앞면에 두께 6.0 µm, 평균 응력 −200 MPa인 몰드 적층을 올렸다. (a) 이때의 bow를 구하라. (b) 뒷면에 응력 −300 MPa인 산화막을 올려 bow를 0으로 만들려면 몇 µm가 필요한가?
(a) \(\sum\sigma h = -200\times6.0 = -1200\) MPa·µm, 압축이므로 볼록: bow \(= +0.623\times1200 = +748\) µm. (b) 뒷면의 압축막은 뒷면을 볼록하게, 곧 앞면을 오목하게 만든다. 유효 \(\sum\sigma h = -1200-(-300)h_b = 0\)에서 \(h_b = 4.00\) µm.
산화막에 갇힌 구리 배선의 주응력이 (400, 300, 250) MPa이다. 폰 미제스 등가 응력과 평균(정수압) 응력을 구하라.
\(\sigma_\text{vM} = \sqrt{\tfrac12[(100)^2+(50)^2+(150)^2]} = \sqrt{17500} = 132\) MPa. \(\sigma_m = (400+300+250)/3 = 317\) MPa. 등가 응력은 작아 항복하지 않지만 정수압 인장이 커서 보이드가 자란다.
항복 강도 300 MPa인 축이 축 방향 인장 150 MPa를 받는다. 항복하지 않고 더 걸 수 있는 최대 비틀림 전단 응력을 폰 미제스와 트레스카 기준으로 각각 구하라.
vM: \(\tau = \sqrt{(300^2-150^2)/3} = \sqrt{22500} = 150\) MPa. Tr: \(\tau = \sqrt{(300^2-150^2)/4} = 130\) MPa. 트레스카가 13 % 보수적이다.
웨이퍼 앞면에 인장 응력의 텅스텐 막을 증착했다. 막을 위로 두고 본 웨이퍼 모양은?
인장막은 줄어들려 하므로 표면을 끌어당겨 막 쪽이 오목해진다(그릇 모양). 압축막은 반대로 막 쪽이 볼록해진다(돔 모양). 막이 얇아도 \(\sigma_fh_f\)가 크면 수백 µm 휜다.
개념 확인 퀴즈
평면 응력의 모어 원에서 원의 반지름이 뜻하는 것은?
푸아송 비가 0.5에 가까운 재료(고무)의 성질로 옳은 것은?
스토니 식으로 막 응력을 구할 때 필요 없는 값은?
금속에 매우 큰 정수압(모든 방향으로 같은 압축)을 걸면?
(001) 실리콘 웨이퍼에 대한 설명으로 옳은 것은?